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一种基于旋涂工艺的超薄MXene薄膜制备方法.pdfVIP

一种基于旋涂工艺的超薄MXene薄膜制备方法.pdf

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    一种基于旋涂工艺的超薄MXene薄膜制备方法，属于超薄膜制备技术领域。本发明的目的是为了解决现有MXene薄膜较厚、性能差等问题，所述方法包括以下步骤：超薄MXene薄膜衬底的处理：超薄MXene薄膜衬底经超声洗涤后，干燥，得到处理后的衬底；超薄MXene薄膜的制备：取浓度为10～50mg/mL的MXene纳米片分散液均匀涂布于步骤一处理后的衬底上，进一步进行旋涂操作，干燥后重复上述均匀涂布、旋涂、干燥步骤若干次，获得厚度为10～500nm的超薄MXene薄膜。本发明的超薄MXene薄膜通过多次

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113976412 A (43)申请公布日 2022.01.28 (21)申请号 202111250516.8 (22)申请日 2021.10.26 (71)申请人 哈尔滨工业大学 地址

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