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一些实施例包含存储器阵列,所述存储器阵列具有交替的绝缘层级与控制栅极层级的竖直堆叠。沟道材料沿着所述堆叠竖直地延伸。所述控制栅极层级包括导电区。所述导电区包含至少三种不同材料。电荷存储区邻近所述控制栅极层级。电荷阻挡区在所述电荷存储区与所述导电区之间。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113994480 A
(43)申请公布日 2022.01.28
(21)申请号 202080044197.2 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限
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