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本发明提供一种碳化硅晶片及其制备方法。于所述碳化硅晶片中,钒浓度与氮浓度的比例(V:N)在2:1至10:1的范围之间,且其电阻率高于1012Ω·cm的部分占所述碳化硅晶片中整片晶片面积的85%以上。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113990938 A
(43)申请公布日 2022.01.28
(21)申请号 202110849347.3 H01L 21/04 (2006.01)
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