基板处理装置、半导体装置的制造方法及存储介质.pdfVIP

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2023-04-23 发布于四川
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基板处理装置、半导体装置的制造方法及存储介质.pdf

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本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法及存储介质，在一边使基板进行公转一边进行处理的装置中能够对基板载置面周围的结构进行清洁。基板处理装置构成为具有：处理室，其对基板进行处理；基板载置板，其具备非基板载置面和多个基板载置面；旋转部，其使所述基板载置板旋转；等离子体生成部，其构成为所述非基板载置面上的等离子体密度比所述基板载置面上的等离子体密度高；处理气体供给部，其向所述处理室供给处理气体；清洁气体供给部，其向所述处理室供给清洁气体；以及加热器，其配置于所述基板载置板的下方。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113972149 A (43)申请公布日 2022.01.25 (21)申请号 202011006528.1 (22)申请日 2020.09.23 (30)优先权数据 2020-1250