纳米结构三维成像系统与方法.pdfVIP

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2023-04-24 发布于北京
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纳米结构三维成像系统与方法.pdf

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本发明属于三维成像技术领域，具体涉及一种纳米结构三维成像系统与方法，旨在解决成像仪器刻蚀慢、精度低、无法完成跨尺度大体积量刻蚀的问题；系统包括总控中心、真空舱体、电子枪、成像信号探测器、宽离子束源装置和激光测距仪组件；真空舱体的内部设有样品装载装置；宽离子束源装置的径向源与样品被刻蚀表面平行设置；激光测距仪组件包括用于测量与离子束遮挡板顶面距离的第一激光测距仪和用于测量与样品非刻蚀区域距离的第二激光测距仪，第一激光测距仪、第二激光测距仪并排放置且激光行进方向与宽离子束源装置行进方向垂直；本发明能

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113984821 B (45)授权公告日 2022.03.11 (21)申请号 202111626000.9 G01N 23/203 (2006.01)