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本申请提供了导电膜及极片,涉及导电膜技术领域。一种导电膜,包括基膜和结构层,结构层设置于基膜的两面。结构层包括依次设置于基膜的过渡层和功能层,过渡层和功能层均为金属层,过渡层的厚度是功能层的厚度的1%‑4%。该导电膜对结构层进行改进,在基膜与功能层之间设置过渡层,过渡层为金属层,具有导电性能,并且该过渡层具有较好的致密性和较低的电阻率,提高导电膜的致密性和断裂延伸率,降低导电膜的电阻率。过渡层的厚度是功能层厚度的1%‑4%,该结构在导电膜具有较好致密性和较低电阻率的同时,降低工艺成本,降低结构层
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114023972 A
(43)申请公布日
2022.02.08
(21)申请号 20201
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