一种硅单晶研磨剂及其制备方法与应用.pdfVIP

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2023-04-24 发布于北京
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一种硅单晶研磨剂及其制备方法与应用.pdf

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本发明涉及研磨抛光技术领域，提供了一种硅单晶研磨剂的制备方法及应用，所述硅单晶研磨剂按照质量份数含β‑SiC微粉8～12份、CBN微粉1～5份、六方氮化硼微粉1～3份、聚丙烯酰胺3～5份、葡萄糖酸钠4～6份、聚乙二醇4～6份、四甲基氢氧化铵4～6份、水性聚酯润滑剂2～4份、烷基酚聚氧乙烯醚型季铵盐表面活性剂6～10份；pH值调节剂；水35～45份。本申请提供的高效硅单晶研磨剂较之传统金刚石、二氧化硅、碳化硅等抛光剂制备简单，成本相对低廉，具有高稳定性和悬浮性，使抛光后的单晶硅片获得良好的磨抛精度

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113999653 B (45)授权公告日 2022.05.24 (21)申请号 202111264157.1 C09K 23/42 (2022.01)