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本发明提供一种用于消除被测样品表面不均匀荷电的装置及方法，所述装置的主结构包括：离子溅射靶和离子遮挡板（两者均采用惰性金属制成，且该主结构设置于光电子能谱系统的标准样品托上）。所述方法包括：将被测样品置于所述样品托上，且置于离子溅射靶与离子遮挡板之间；所述溅射靶受光电子能谱系统的附属离子束轰击而激发出原子，进而这些原子在被测样品上沉积出厚度精确可控的极薄导电惰性金属覆盖层；所述遮挡板避免样品被离子击中而损坏样品表面；所述覆盖层具有极薄和导电特征，该特征既能保障样品中受激发光电子能透出该覆盖层达到
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114047215 A
(43)申请公布日 2022.02.15
(21)申请号 202111220488.5
(22)申请日 2021.10.20
(71)申请人 北京科技大学顺德研究生院
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