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本发明实施例提供了一种硼扩散处理控制方法、装置和炉管,具体为控制炉管从待机温度升温至沉积温度;当炉管的温度达到述沉积温度时,对炉管内的硅片进行沉积处理、升温推进处理和高温氧化处理;当控制炉管降温至低温氧化温度,在此过程中利用引气对炉管内引入预设压力和预设蒸汽温度的水蒸气,并持续预设时长;对炉管执行第二次降温操作,以使炉管内温度降低至待机温度。本方案利用水气氧化与常规干氧的差异,解决掺杂初始浓度过低问题,即ECV测试中的浓度低头现象,从而解决了硅与金属电极间接触电阻较高的问题,使P型掺杂发射极与金
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114068758 A
(43)申请公布日 2022.02.18
(21)申请号 202010753728.7
(22)申请日 2020.07.30
(71)申请人 一道新能源科技(衢州)有限公司
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