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本发明提供一种非易失性存储器版图及非易失性存储器,所述非易失性存储器版图包括控制栅版图和字线版图,所述控制栅版图包括多个控制栅图形组,每个所述控制栅图形组包括两个控制栅图形。所述栅极图形包括呈直条形且沿第二方向延伸的栅极图形和从所述栅极图形的中间位置伸出的凸起图形,所述凸起图形在所述第一方向上凸出于所述栅极图形并与所述栅极图形连接为一体,每个所述控制栅图形组中的两个所述凸起图形相背设置。所述两个字线图形之间的间隔区域对准所述凸起图形,即字线图形之间的间隔区域靠近凸起图形的背部,如此可使得存储器中
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114068524 A
(43)申请公布日 2022.02.18
(21)申请号 202111424329.7
(22)申请日 2021.11.26
(71)申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司
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