一种检测掩模版缺陷的方法和装置.pdfVIP

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2023-04-25 发布于四川
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一种检测掩模版缺陷的方法和装置.pdf

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本发明公开了一种检测掩模版缺陷的方法和装置。该方法的具体步骤如下：（1）利用掩模版空间像测量装置，对横电波TE与横磁波TM两个互相垂直的偏振态分别做一次测量，获得两套，分别对应TE与TM照明下掩模版表面的复振幅；（2）通过空间像仿真算法获取在硅片上的光强分布，根据光强分布对称状况、线宽的差异，对掩模版缺陷进行评判。本发明采用成熟的干涉仪技术，对缺陷在光瞳处产生的振幅与相位进行精确测量，再通过成熟的空间像仿真合成硅片上图像，以定量地确定缺陷对光刻工艺的影响，无需补偿。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114062384 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 202111256712.6 (22)申请日 2021.10.27 (71)申请人复旦大学地址 20