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- 2023-04-25 发布于四川
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公开了一种表面处理设备和方法，用于对诸如晶片或基板的衬底进行表面处理。该表面处理设备包括一个或多个支撑结构，用于支撑一个或多个衬底，以及一个或多个紫外照明源，被配置为发射紫外照明，并且可操作地处理所述一个或多个衬底的所述至少一个表面，同时所述一个或多个衬底由所述一个或多个支撑结构支撑。一个或多个紫外照明源与曝光源不同，并且不可操作为发射用于曝光晶片上的图案的曝光照明。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114072732 A
(43)申请公布日 2022.02.18
(21)申请号 202080048358.5 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所
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