一种在接触式光刻机上实现接近式曝光的光刻版及其应用方法.pdfVIP

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2023-04-26 发布于四川
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一种在接触式光刻机上实现接近式曝光的光刻版及其应用方法.pdf

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本发明提供了一种在接触式光刻机上实现接近式曝光的光刻版及其应用方法，所述光刻版包括透明基板、所述透明基板上设置有圆柱体，在设置有圆柱体的透明基板的一面上设置有铬层，所述铬层位于透明基板以及圆柱体的上端面上。上述光刻板的应用方法，包括步骤：在基片上均匀涂覆一层光刻胶，经烘烤，得到带有光刻胶的基片；将带有光刻胶的基片放入接触式光刻机承片台上，基片涂覆有光刻胶的一面与光刻板中的圆柱体接触，进行光刻曝光；将基片与光刻板进行烘烤，之后取下光刻版，将基片进行显影处理。本发明的方法利用本发明的光刻版，在接触式

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114077152 A (43)申请公布日 2022.02.22 (21)申请号 202010835631.0 (22)申请日 2020.08.19 (71)申请人山东华光光电子股份有限公司