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本申请公开一种半导体工艺设备,其包括工艺腔室、匹配器、高频电源和低频电源,工艺腔室包括腔体、基座、喷淋件和同轴接地组件,匹配器与基座连接;喷淋件为导电结构件,喷淋件与腔体之间绝缘;同轴接地组件设置于喷淋件背离基座的一侧,同轴接地组件包括屏蔽件、隔离件和接地件,屏蔽件和接地件均为导电结构件,隔离件为介电结构件;屏蔽件设置于腔体的顶部,屏蔽件接地;屏蔽件内具有容纳腔,接地件设置于容纳腔内,接地件的两端分别与喷淋件和容纳腔的顶部电性连接;隔离件设置于接地件的外壁和容纳腔的内壁之间。上述半导体工艺设备能
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114171364 A
(43)申请公布日 2022.03.11
(21)申请号 202111470643.9
(22)申请日 2021.12.03
(71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司
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