一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物及其制备方法.pdfVIP

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2023-04-27 发布于北京
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一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物及其制备方法.pdf

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本发明涉及一种用于ArF浸没式光刻胶顶层涂层的组合物，所述的组合物包括聚合物I、聚合物II、光致产酸剂和电子级溶剂，所述的聚合物I和聚合物II结构式如下：a选自40‑70％，b选自1‑10％，c选自30‑60％；x选自1‑10％，y选自1‑10％，z选自80～95％；聚合物I和聚合物II的分子量选自1000‑30000Da，分子量分散系数选自1.0‑4.0。所述顶层涂层组合物具有较高的后退角，可减少光致产酸剂在浸没流体中的沥出。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114153124 A (43)申请公布日 2022.03.08 (21)申请号 202111631540.6 (22)申请日 2021.12.29 (71)申请人中节能万润股份有限公司