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- 2023-04-27 发布于北京
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本申请公开一种阵列基板及其制作方法。阵列基板包括基板、薄膜晶体管、第一钝化层、有机膜层、公共电极、第二钝化层及像素电极层。有机膜层包括位于薄膜晶体管上方的第一过孔。公共电极覆盖像素区域，并包括第二过孔及围绕第二过孔的缓壁。第二过孔连通第一过孔，且缓壁的底缘与第一过孔的顶缘之间具有间距。第二钝化层包括连通第二过孔的第三过孔。像素电极层设在第二钝化层上，并通过第一过孔、第二过孔及第三过孔连接第二金属层，以优化公共电极的过孔边缘形貌，提升应付制程波动限度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114137771 A
(43)申请公布日 2022.03.04
(21)申请号 202111491101.X
(22)申请日 2021.12.08
(71)申请人 TCL华星光电技术有限公司
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