一种新型抗辐射光学玻璃及其制备方法.pdfVIP

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2023-04-27 发布于北京
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一种新型抗辐射光学玻璃及其制备方法.pdf

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本发明涉及光学玻璃材料技术领域，具体涉及一种新型抗辐射光学玻璃及其制备方法，包括以下步骤，将原料硼酸、氧化镧、氧化锆、石英砂、氧化铌、氧化锌和氧化钛混合后，然后依次进行熔化、澄清、均化和成型处理，并制成光学玻璃基片，然后对基片表面进行磁控溅射，溅射过程中，控制基片自转，再通过镀膜机对光学玻璃基片进行镀膜处理，得到新型抗辐射光学玻璃。本发明通过磁控溅射在基片表面形成致密的保护层，阻断光学玻璃基片中的金属离子等向表面功能层的迁移，避免金属离子影响表面功能层的透光性，利用基片表层的镀膜层，提升光学玻璃

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114163141 A (43)申请公布日 2022.03.11 (21)申请号 202111368232.9 (22)申请日 2021.11.18 (71)申请人成都