一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层及其制备方法.pdfVIP

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2023-04-28 发布于四川
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一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层及其制备方法.pdf

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本发明公开了一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法，包括：将预处理后RAFM钢与纯钨靶材安装在磁控溅射腔室内，将腔室内抽真空至2×10‑4Pa，设定工作气压为2.0Pa，溅射功率为20‑60W，磁控溅射60min，得到具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层。本发明制备的不同表面形貌钨涂层表面均匀致密，物相结构为典型的BCC结构，涂层截面为致密的柱状晶结构。本发明具有特定表面组织形貌的“钨涂层+RAFM钢”结构具有良好的抗辐照性能，在高通量He离子条件下进行抗离子辐照性能的测试，分析了钨涂层的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114196928 A (43)申请公布日 2022.03.18 (21)申请号 202111454042.9 (22)申请日 2021.12.01 (71)申请人合肥工业大学地址