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本发明提供一种闪耀光栅的制备方法,该闪耀光栅的制备方法包括:在基材上制作第一掩模;采用第一入射角对所述第一掩模进行离子束倾斜刻蚀,得到第二掩模;采用第二入射角对所述第二掩模进行离子束倾斜刻蚀,得到闪耀光栅。该方法通过第一次离子束刻蚀得到第二掩模,通过控制第一次离子束入射角来控制第二掩模的底角,从而控制闪耀光栅的某一底角;再通过对第二掩模进行离子束刻蚀得到闪耀光栅,通过控制第二次离子束入射角来控制闪耀光栅的另一底角。因此,可以实现对闪耀光栅的第一底角和第二底角的同时控制,可以提高设计的自由度,有利
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114185122 A
(43)申请公布日 2022.03.15
(21)申请号 202210072723.7
(22)申请日 2022.01.21
(71)申请人 北京至格科技有限公司
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