对处理衬底的框架进行均匀照射的方法和系统.pdfVIP

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2023-04-28 发布于四川
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对处理衬底的框架进行均匀照射的方法和系统.pdf

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本发明涉及对处理衬底的框架进行均匀照射的方法和系统。一种用于对处理衬底(1)的框架进行均匀照射的方法，所述处理衬底包括多个框架，两个连续的框架被中间区域隔开，所述方法包括以下步骤：‑使用检测单元(80)确定所述处理衬底的初始位置，‑将与处理衬底的第一框架相关联的第一预定位置与所述检测到的初始位置进行比较，‑基于第一预定位置，通过由源单元(30)发射并由扫描单元(40)扫描的照射光束(105)来照射处理衬底的所述第一框架，所述照射光束适于均匀地覆盖整个第一框架。还描述了一种用于对处理衬底的框架进行

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114203585 A (43)申请公布日 2022.03.18 (21)申请号 202111089984.1 (22)申请日 2021.09.17 (30)优先权数据