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本发明公开了一种高Q值单晶薄膜体声波谐振器的制备方法,具体如下:衬底上依次沉积剥离层、压电层和下电极,下电极上沉积一个或两个环形结构以及钝化层,环形结构表面沉积钝化层;下电极表面淀积包裹钝化层和环形结构的牺牲层,压电层上沉积包裹牺牲层和下电极的保护层,压电层上淀积包裹保护层的待键合层二;将基底上的待键合层一与待键合层二键合,去除衬底,压电层上沉积上电极,上电极上沉积钝化层三,将上电极以外的压电层减薄;在压电层上形成通孔,通孔的底部开口于牺牲层表面,利用通孔去除牺牲层,从而在钝化层和保护层之间形成
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114268290 A
(43)申请公布日 2022.04.01
(21)申请号 202111623250.7
(22)申请日 2021.12.28
(71)申请人 杭州电子科技大学
地址
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