用于对光敏记录介质进行曝光的方法和曝光装置.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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用于对光敏记录介质进行曝光的方法和曝光装置.pdf

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本发明涉及借助于曝光装置(11)对光敏记录介质(14)进行曝光的方法，该曝光装置(11)包括：处理室(35)中的至少一个曝光头(16)，用于对记录介质(14)进行曝光；至少一个支撑件(12)，至少一个记录介质(14)被定位在该至少一个支撑件上并随后被插入处理室(35)中；至少一个图像捕获设备(25)，该至少一个图像捕获设备(25)在记录介质(14)的插入方向上被布置在所述至少一个曝光头(16)的上游；以及控制器(27)，该控制器对记录介质(14)的实际定位和/或实际位置进行捕获或者对记录介质(1

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114270272 A (43)申请公布日 2022.04.01 (21)申请号 202080059698.8 (74)专利代理机构成都超凡明远知识产权代理