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公开了温度控制的抛光垫。一方面,CMP系统包括使用任何类型的雾化系统来冷却或去除来自CMP系统的抛光垫的能量和/或热量。雾化系统可以使用任何液体介质结合任何压缩气体通过孔口来冷却或去除来自垫的能量和/或热量,从而在CMP期间允许更高的去除速率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114269516 A
(43)申请公布日 2022.04.01
(21)申请号 202080057312.X (74)专利代理机构 北京纪凯知识产权代理有限
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