光栅制备方法及光栅制备系统.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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光栅制备方法及光栅制备系统.pdf

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本发明公开了一种光栅制备方法及光栅制备系统。所述光栅制备方法应用于基板，包括：生成激光，激光用于在基板的第一方向扫描生成第一光栅；控制基板移动预设距离，以使激光在基板的第二方向扫描生成第二光栅；其中，第一光栅包括多个第一子光栅，第二光栅包括多个连接光栅和多个第二子光栅；连接光栅的一端与第一光栅连接，连接光栅的另一端与第二子光栅连接。本发明的光栅制备方法能够使得已生成纳米光栅对准位置的光场增强，从而引起新生成的自对准第二纳米光栅与已生成第一纳米光栅的自对准生长及定向拼接，最终实现大面积均匀纳米光栅

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114217369 A (43)申请公布日 2022.03.22 (21)申请号 202111367145.1 (22)申请日 2021.11.18 (71)申请人南方科技大学地址