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本发明涉及一种半导体装置及半导体存储装置。实施方式的半导体装置具备:衬底;第1电极;第2电极,其与衬底之间设置着第1电极;氧化物半导体层,设置在第1电极与第2电极之间,与第1电极相接,含有选自由铟(In)、镓(Ga)、硅(Si)、铝(Al)及锡(Sn)所组成的群中的至少一种第1元素和锌(Zn),化学组成和第1电极及第2电极不同;导电层,设置在氧化物半导体层与第2电极之间,与第2电极相接,含有选自由铟(In)、镓(Ga)、硅(Si)、铝(Al)、锡(Sn)、锌(Zn)及钛(Ti)所组成的群中的至少
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114267740 A
(43)申请公布日 2022.04.01
(21)申请号 202110102182.3
(22)申请日 2021.01.26
(30)优先权数据
2020-1558
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