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- 2023-05-05 发布于四川
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本发明提供一种成膜系统和成膜方法,能够以倾斜成膜为基础而进行自由度较高的溅射成膜。成膜系统的成膜装置具备:处理腔室;第1溅射粒子释放部和第2溅射粒子释放部,其分别具有在处理腔室的处理空间沿着互不相同的倾斜方向释放溅射粒子的靶;溅射粒子遮蔽板,其具有供溅射粒子穿过的穿过孔;基板支承部,其支承基板;基板移动机构,其使基板直线地移动;以及控制部。控制部以使基板直线地移动的方式进行控制,同时控制来自第1溅射粒子释放部和第2溅射粒子释放部的溅射粒子的释放,从第1溅射粒子释放部和第2溅射粒子释放部释放出来的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114293156 A
(43)申请公布日 2022.04.08
(21)申请号 202111498049.0 C23C 14/50 (2006.01)
(22)申请日 2
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