一种非球面离子束抛光方法.pdfVIP

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2023-05-05 发布于四川
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一种非球面离子束抛光方法.pdf

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本发明涉及光学元件加工技术领域，具体涉及一种非球面离子束抛光方法。是在计算驻留时间时在不同的驻留点处使用不同的去除函数去计算。本发明可在线性三轴离子束加工设备上实现非球面修形，三轴加工系统控制相对较简单，成本低。本发明采用的步骤为：1、测算非球面的初始面形偏差；2、进行去除函数获取实验，获取基准去除函数，根据动态去除函数模型计算动态去除函数链表；3、分配驻留点，规划合适的加工路径；4、根据待加工光学元件的面形参数计算竖直方向的入射角和各驻留点处的方位角；5、计算驻留时间矩阵并生成加工文件，导入修

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114273986 A (43)申请公布日 2022.04.05 (21)申请号 202111526676.0 G05B 19/19 (2006.01) (22)申请日 2