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- 2023-05-05 发布于四川
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本发明涉及发光器件技术领域,具体而言,涉及一种发光二极管及其制备方法。发光二极管包括衬底和在衬底表面依次层叠设置的N型半导体层、多量子阱发光层,电子阻挡层和P型半导体层,电子阻挡层包括第一子层、第二子层和第三子层;多量子阱发光层、第一子层、第二子层和第三子层均包括同一位置设置的V型坑区域和平行于衬底的平面区域;平面区域,第一子层、第二子层和第三子层的厚度之比为50~400:0.001~50:10~400;V型坑区域,第一子层、第二子层和第三子层的厚度之比为5~20:0.001~5:5~100。这
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114300590 A
(43)申请公布日 2022.04.08
(21)申请号 202111621442.4 H01L 33/32 (2010.01)
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