用于光源的端部琢面保护和用于量测应用的方法.pdfVIP

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2023-05-05 发布于四川
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用于光源的端部琢面保护和用于量测应用的方法.pdf

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公开一种用于提供光源的系统和方法。在一个布置中，所述光源包括：气室，所述气室具有窗口；光纤，所述光纤是中空的且具有轴向方向，所述光纤的端部被封闭于所述气室内且经由光学路径光学地耦合至所述窗口；以及表面，所述表面围绕所述光纤的所述端部设置，并且在所述轴向方向上朝向所述窗口延伸通过所述光纤的所述端部，以便限制以下中的一个或更多个：所述光学路径与所述气室的其余部分之间的气体的交换；等离子体朝向所述光纤或至所述光纤中的进入；以及朝向蚀刻敏感表面的自由基通量。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114303093 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202080060742.7 塞巴斯蒂安 ·托马斯 ·鲍尔思科米