一种大尺寸、多元Ag基合金溅射靶材的制备方法.pdfVIP

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2023-05-07 发布于北京
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一种大尺寸、多元Ag基合金溅射靶材的制备方法.pdf

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本发明涉及AMOLED高性能金属靶材制备领域，具体涉及一种大尺寸、多元Ag基合金溅射靶材及制备方法；生产的银合金溅射靶材尺寸满足G4.5‑G6AMOLED产线生产所需的大尺寸一体宽幅靶材；并且通过调节合适的多元组分，改善AMOLED制程中出现的纯Ag膜层的扩散和腐蚀不良；一方面可以避免Ag合金大气熔炼时的严重吸氧，另一方面真空环境下通入一定压力的惰性气体保护可以避免Ag及其合金元素的挥发损失，可以更加容易和精准的控制合金比例；为了提高合金元素的均匀本发明采取独特的二次熔炼的工艺，首次熔炼在达到

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114395749 A (43)申请公布日 2022.04.26 (21)申请号 202111343240.8 (22)申请日 2021.11.13 (71)申请人洛阳高新四丰电子材料有限公司