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一种光学邻近矫正方法及其系统、掩膜版、设备及存储介质，所述光学邻近矫正方法包括：提供原始图形；获取所述原始图形中的刻蚀窗口；获取所述刻蚀窗口边界内侧的膜层，作为内侧膜层，以及获取所述刻蚀窗口边界外侧的膜层，作为外侧膜层；判断所述内侧膜层的材料和外侧膜层的材料是否相同；当所述内侧膜层的材料和外侧膜层的材料不同时，将所述内侧膜层和外侧膜层的边界标记为待处理边界；沿着垂直于所述待处理边界且由所述内侧膜层指向外侧膜层的方向，对所述待处理边界进行扩展，获得图形。本发明实施例有利于增大光刻和刻蚀工艺的窗口，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114442421 A
(43)申请公布日 2022.05.06
(21)申请号 202011188200.6
(22)申请日 2020.10.30
(71)申请人 北方集成电路技术创新中心（北京）
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