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本发明公开了一种大规模量产中实现稳定的刻蚀速率方法，包括以下步骤：S1：腔体预处理；S2：低功率预跑片；S3：腔体老化；S4：腔体等离子体预热；S5：正常生产跑片；S6：正常生产跑片结束后等离子体处理。本发明与现有技术的优点是：本发明通过对工艺腔体内部零部件进行预处理和老化，并设计一种腔体压力、气体种类、气体比例在晶圆跑货中始终维持稳定的方法，解决了造成的刻蚀/去胶速率和腔体材质的不稳定现象。稳定的跑片工艺，提高了成品率，减少了研发或者量产过程中的故障检查，节约了大量的人力物力。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114496703 A
(43)申请公布日 2022.05.13
(21)申请号 202111297051.1
(22)申请日 2021.11.04
(71)申请人 上海稷以科技有限公司
地址 201
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