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本发明公开了一种金刚石/氧化镓异质pn结二极管的制备方法,包括如下步骤:在高掺杂p型金刚石衬底上外延轻掺杂p型金刚石外延层;选择性外延掩膜的制作;轻掺杂n型氧化镓和高掺杂n型氧化镓外延层的生长;氧化镓外延层的剥离;正面和背面欧姆接触的制备。本发明针对现有pn结型金刚石二极管由于n型掺杂激活率低导致的n型掺杂区域电阻高、器件导通电阻大的问题,基于氧化镓选择性延生长技术,开发了一种金刚石异/氧化镓超宽禁带异质pn结二极管的制备方法,具有器件导通电阻低、击穿电压高、高温稳定性好等优点。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114497186 A
(43)申请公布日 2022.05.13
(21)申请号 202111669320.2 H01L 29/861 (2006.01)
(22)申请日 2021.12
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