一种单晶硅片表面处理装置.pdfVIP

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2023-05-09 发布于四川
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一种单晶硅片表面处理装置.pdf

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本发明公开了一种单晶硅片表面处理装置，涉及单晶硅片加工技术领域，包括底座、支撑座和抛光板，所述底座的顶部外侧设置有转动组件，所述支撑座安置于转动组件的顶部外侧，所述支撑座的顶部外侧连接有吸盘座，且支撑座的外端连接有螺纹座，所述螺纹座的内侧设置有丝杠。本发明支撑座旋转的过程中，抬升座底部的平滑滚珠能对支撑座支撑，这使得抬升座能在支撑座旋转过程中对支撑座进行支撑，同时平滑滚珠能极大的降低支撑座在转动过程中的晃动，这使得单晶硅片的抛光稳定性可以得到提升，此外通过采用使单晶硅片旋转而抛光条静置的方式进行

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114473814 A (43)申请公布日 2022.05.13 (21)申请号 202210123602.0 B24B 55/06 (2006.01) (22)申请日 2022.02.