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- 2023-05-10 发布于四川
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本申请涉及涂覆有抗裂氟退火膜的制品及制造方法。提供与具有优异的抗等离子体蚀刻性且可延长RIE组件的使用寿命的涂层相关的制品及方法。制品具有真空兼容衬底及覆盖所述衬底的至少一部分的保护膜。所述膜包括含钇的氟化金属氧化物,其中使用AC电源沉积氧化钇。所述膜在所述膜的30%总厚度的深度处具有至少10的氟原子%,并且所述膜不具有当使用激光共聚焦显微镜以1000倍的放大率观察所述膜的整个深度时可见的在所述膜的表面下方的表面下裂纹。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114517284 A
(43)申请公布日 2022.05.20
(21)申请号 202111367249.2
(22)申请日 2021.11.18
(30)优先权数据
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