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本发明提供一种沟槽隔离结构的形成方法以及图像传感器的形成方法，包括：提供一衬底，所述衬底包括逻辑区和像素区，在所述衬底上依次形成缓冲层、刻蚀停止层和硬掩模层；在所述逻辑区和所述像素区上形成深度相同的第一沟槽和第二沟槽；覆盖所述像素区的第二沟槽，并继续刻蚀所述逻辑区的第一沟槽，以形成第三沟槽，所述第三沟槽为所述第一沟槽的延伸，所述第三沟槽的深度大于所述第二沟槽的深度；在所述第三沟槽和所述第一沟槽内填充保护层，并且所述保护层覆盖所述硬掩模层；采用回刻工艺去除所述硬掩模层和硬掩模层上的保护层，所述回刻
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114530471 A
(43)申请公布日 2022.05.24
(21)申请号 202210433010.9
(22)申请日 2022.04.24
(71)申请人 合肥晶合集成电路股份有限公司
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