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本发明公开了一种减少位错缺陷及多晶占比的铸造晶硅制备方法,方法如下:直拉单晶圆棒去除边皮后得到无圆角的单晶方棒;垂直晶硅生长方向将单晶方棒切割成大籽晶块;所述单晶方棒或边皮切割成小籽晶块;将所述大、小籽晶块铺设在坩埚底部,形成完整的籽晶层;在籽晶层上放置原生多晶硅料、单晶边皮及头尾边等循环料;将装满多晶硅料的坩埚放入铸锭炉中,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭或多晶硅锭;将硅锭进行开方,开方后得到小方锭;将小方锭进行切片后得到铸造单晶硅片或多晶硅片。本发明小籽晶块与大籽晶块接缝处形成的功能晶界阻止坩埚
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114540953 A
(43)申请公布日 2022.05.27
(21)申请号 202011363122.9
(22)申请日 2020.11.27
(71)申请人 福建新峰二维材料科技有限公司
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