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本发明公开了一种铌掺杂二维硫化钨晶体材料的制备方法,采用化学气相沉积法,以Si/SiO2为衬底,金属钨箔为钨源,金属铌箔为铌源,生长衬底倒扣在金属钨箔上,金属铌箔面积小于金属钨箔面积,生长衬底一端直接与金属钨箔接触,另一端在铌源的正上方,与硫蒸气反应,在衬底上制备得到了一种铌掺杂二维硫化钨晶体材料。所得的单层铌掺杂硫化钨晶体材料,可作为晶体管的沟道材料应用于超薄高效场效应晶体管领域。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114540956 A
(43)申请公布日 2022.05.27
(21)申请号 202111641662.3
(22)申请日 2021.12.29
(71)申请人 杭州电子科技大学
地址 31001
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