一种声光耦合衬底、器件及器件制备方法.pdfVIP

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2023-05-10 发布于北京
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一种声光耦合衬底、器件及器件制备方法.pdf

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本申请公开了一种声光耦合衬底、器件及器件制备方法，其中，一种声光耦合衬底，包括依次层叠设置的衬底层、介质层、声学层和光学层：衬底层的材料包括硅；介质层的材料包括二氧化硅；声学层的材料包括高质量氮化铝，高质量是指在X射线衍射测试中，晶向半高宽小于150弧秒；光学层的材料包括碳化硅。本声光耦合衬底、器件通过直接键合形成，改善了目前利用离子束技术制备硅基碳化硅薄膜的离子损伤的问题，同时实现了硅基高单晶质量的声学器件层和光学器件层的晶圆级异质集成。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114527587 A (43)申请公布日 2022.05.24 (21)申请号 202210099645.X (22)申请日 2022.01.27 (71)申请人中国科学院上海微系统与信息技术