一种化学机械抛光工艺中保持环结构的仿真方法.pdfVIP

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2023-05-11 发布于四川
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一种化学机械抛光工艺中保持环结构的仿真方法.pdf

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本发明提供一种化学机械抛光工艺中保持环结构的仿真方法，包括构建化学机械抛光工艺的CFD模型，流体区域划分为离散网格，所述网格是不重复的控制体积，在各个控制体积内，使用动量方程、连续性方程和VOF模型控制抛光液流体运动，DPM模型控制磨料运动，动量方程、连续性方程和VOF模型针对各个控制体积积分以得到离散方程，求解离散方程得到仿真数据，仿真数据包括磨料运动数据，根据磨料运动数据绘制磨料分布，磨料在抛光垫上和/或晶圆边缘聚集状态，具有有益效果：通过有限元的方法将抛光液/磨料流动可视化，帮助理解保持环

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116090365 A (43)申请公布日 2023.05.09 (21)申请号 202310025206.9 (22)申请日 2023.01.09 (71)申请人上海集成电路材料