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- 2023-05-11 发布于四川
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本发明涉及一种环绕栅极晶体管及其制备方法。一种环绕栅极晶体管的制备方法采用如下方法形成栅介质:先形成第一高k介质层,然后去除部分区域的第一高k介质层;再形成第二高k介质层;其中,所述第一高k介质层和所述第二高k介质层具有不同的电负性或者不同的原子半径。本发明利用不同区域上两个高k介质层的不同结构来形成不同器件阈值,为器件的多阈值集成提供了更好的选择性。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114582805 A
(43)申请公布日 2022.06.03
(21)申请号 202210169094.X
(22)申请日 2022.02.23
(71)申请人 中国科学院微电子研究所
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