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本发明公开了一种树脂及含其的193nm浸没式光刻胶的应用。该应用涉及一种形成光刻图案的方法，其包括如下步骤：S1：将光刻胶组合物涂覆于基材表面，并进行烘培，形成光刻胶层；S2：将S1形成的光刻胶层进行曝光；S3：将S2曝光后的光刻胶层进行烘培；S4：将S3烘培后的光刻胶层进行显影；所述光刻胶组合物包括树脂，该树脂为由式(A)所示的单体、式(B)所示的单体、式(C)所示的单体和式(D)所示的单体聚合得到的共聚物。包含本发明树脂的光刻胶用于形成光刻图案时至少具有以下优势：感光性优异，聚焦深度(DOF
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116088268 A
(43)申请公布日 2023.05.09
(21)申请号 202111305913.0
(22)申请日 2021.11.05
(71)申请人 上海芯刻微材料技术有限责任公司
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