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本发明涉及研磨抛光材料技术领域，具体而言，涉及一种用于对超薄壁模具研磨抛光的泥料及研磨抛光方法。该泥料由泥料原料制得，含有窄粒度分布片状氧化铝和超细碳化硅微粉；窄粒度分布片状氧化铝的径厚比为4~20，D50为3~10μm，超细碳化硅微粉的微观结构为类球形亚微米颗粒。窄粒度分布片状氧化铝对模具的进泥孔、出泥槽进行研磨，可有效去除毛刺；亚微米颗粒状的类球形超细碳化硅微粉能够提高超薄壁模具各个部位的光洁度；本发明的超薄壁模具的研磨抛光方法，具有效率高的优点。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115820131 A
(43)申请公布日 2023.03.21
(21)申请号 202310112182.0 B24B 31/116 (2006.01)
(22)申请日 2023.02
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