一种纳米晶TaNbTi中熵合金涂层及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-12 发布于四川
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一种纳米晶TaNbTi中熵合金涂层及其制备方法.pdf

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本发明公开了一种纳米晶TaNbTi中熵合金涂层及其制备方法，其组成元素Ta、Nb、Ti为等原子比。在单面抛光的单晶硅基体上采用直流磁控溅射的方法制备TaNbTi难熔中熵合金涂层，靶材为TaNbTi单一合金靶，采用直流电源，功率为200W，工作气压设定值为0.3Pa，沉积温度为室温，基盘转速为15r/min。本发明通过直流磁控溅射技术制备的TaNbTi难熔中熵合金涂层，微观组织致密均匀，缺陷少，内部合金元素分布均匀，截面晶粒为柱状纳米晶。本发明的TaNbTi难熔中熵合金涂层具有优异的力学性能和抗氧

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114592170 A (43)申请公布日 2022.06.07 (21)申请号 202210336453.6 (22)申请日 2022.03.31 (71)申请人中国原子能科学研究院地址 102