一种基于流体控制技术的耐管壁沉积等离子体射流装置.pdfVIP

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2023-05-12 发布于北京
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一种基于流体控制技术的耐管壁沉积等离子体射流装置.pdf

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本发明公开了一种基于流体控制技术的耐管壁沉积等离子体射流装置，包括电源模块、工作气体源、辅助气体源、等离子体射流反应器与外辅助气路结构；混有反应媒质的工作气从介质管的气体输入口进入反应器；电极结构包括高压针电极和接地环电极；射流介质管外侧套有辅助气路，介质管上针环之间的区域设有多层微孔通道；辅助气体源的气体从外气路结构的气体输入口进入，气体流速大于工作气体，在圆孔处介质管内外压强差使沿介质管轴向排列的圆孔间区域减少薄膜沉积。本发明解决了等离子体射流进行化学气相沉积覆膜时，容易发生的射流介质管内壁

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114615784 A (43)申请公布日 2022.06.10 (21)申请号 202210208443.4 (22)申请日 2022.03.04 (71)申请人南京工业大学地址 211816