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本发明公开了一种柔性铁电负电容场效应晶体管及制造方法,该柔性铁电负电容场效应晶体管自下而上包括:衬底、缓冲层、底电极、栅极介质层一、栅极铁电层、栅极介质层二,半导体沟道层;所述半导体沟道层的上层依次设有源极电极和漏极电极;并主要通过脉冲激光沉积工艺及利用离子溅射工艺,制备柔性铁电负电容场效应晶体管。本发明制备的柔性铁电负电容场效应晶体管亚阈值摆幅低至19.4mV/dec,且具有优秀的机械弯曲特性,能承受4mm弯折半径和反复500次的弯折,并在室温至180℃的宽温域内实现远低于60mV/dec的亚
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114597263 A
(43)申请公布日 2022.06.07
(21)申请号 202210292952.X
(22)申请日 2022.03.23
(71)申请人 湘潭大学
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