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本发明涉及场效应晶体管技术领域,公开了一种具有虚拟衬底的超结半导体场效应管,包括P型衬底,P型衬底左上方为P型缓冲层,其右上方为N型缓冲层,N型缓冲层的右上方为漏N型重掺杂区,P型衬底正上方为隔离氧化层,隔离氧化层上方为超结层,超结层左侧为P阱,所述P阱左侧为源N型重掺杂区,超结层上方设有源电极、栅电极和漏电极,超结层右侧为漏N型重掺杂区,用于使漏电极与N型缓冲层和超结P柱和超结N柱形成欧姆接触。本发明使用虚拟衬底,有效地将衬底与超结的表面电场分布趋于一致,消除了衬底辅助耗尽效应,使器件比导通电
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114613857 A
(43)申请公布日 2022.06.10
(21)申请号 202210289763.7
(22)申请日 2022.03.23
(71)申请人 西安电子科技大学
地址 71007
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