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本申请提供一种真空腔体烘烤方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：在真空腔体烘烤过程中，监控真空腔体的当前真空度；根据当前真空度与预设真空度阈值之间的大小关系，确定真空腔体的目标烘烤状态；根据真空腔体的目标烘烤状态，调节加热片和卤素灯的发热功率，以调节真空腔体的烘烤温度，使真空腔体进入目标烘烤状态。上述方案提供的方法。通过实时监控真空腔体在烘烤过程中的真空度，并根据真空度与预设真空度阈值之间的大小关系，自动调节真空腔体的烘烤温度，而无需依赖人工操作，提高了真空腔体的烘烤效率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116045668 A
(43)申请公布日 2023.05.02
(21)申请号 202211481576.5 F27D 19/00 (2006.01)
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