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本发明公开了一种约束环组件、等离子处理装置及其排气控制方法，其中该约束环组件包括：约束环，所述的约束环具有多个气体通道，用于将气体排放至约束环下方的排气区域；若干个气体通道调节件，位于所述约束环的下方，每个所述的气体通道调节件包括阻挡件，所述的阻挡件能相对所述约束环移动，对所述约束环的气体通道的间隙进行调节，以将整个约束环分为若干个调节区域。本发明能够利用微观调试工艺改变约束环气体通道的间隙，可分区域调节腔体的环境，改善制程区域不对称的问题，并进一步改善基片的制程均一性问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114639585 A
(43)申请公布日 2022.06.17
(21)申请号 202011489568.6
(22)申请日 2020.12.16
(71)申请人 中微半导体设备（上海）股份有限公
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