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本申请公开了一种多功能等离子体设备及等离子体生成方法，涉及材料表面处理技术领域。多功能等离子体设备包括真空室、工件台、弧源组件、磁控溅射靶源组件、偏压电源、弧电源组件和磁控溅射电源，所述工件台、所述弧源组件和所述磁控溅射靶源组件均安装于所述真空室内；所述工件台转动安装于所述真空室，所述弧源组件和所述磁控溅射靶源组件分别设置于所述工件台的周向；所述工件台与所述偏压电源连接，所述弧源组件与所述弧电源组件连接，所述磁控溅射靶源组件与所述磁控溅射电源连接。本申请提供的多功能等离子体设备可提供多种等离子体
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114622180 A
(43)申请公布日 2022.06.14
(21)申请号 202210236224.7 H01J 37/34 (2006.01)
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用户编号：7160061112000031
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